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嘉兴净化厂房公司浅谈AMC在洁净室中的重要性
发布时间：2024-11-11
来源：安徽维高环境科技 浏览次数：45
摘要: AMC是危害生产工艺并导致成品率降低的分子态化学物质,从AMC定义、分类、来源和去除方法进行探讨和分析。 关键词: 半导体;AMC;污染物;化学过滤器 。
0 引言
半导体生产制程包含精密的微机电和积体电路,对于生产环境之洁�Q度的要求特别严格,因此整个制造过程都在严格控制的环境条件下,也就是一般熟悉的洁�Q室。在洁净室技术中,污染不仅包括严格意义上的灰尘的微粒,还包括任何有干扰作用的固体、液体、气体、热、电磁。所以需要小心控制污染控制的生产有关的环境,这可能会有负面影响的过程和产品的质量。
大多数洁净室会避免的悬浮微粒污染,因为微粒为大颗粒,通过HEPA/ULPA过滤器足以控制,但是悬浮分子污染,为小颗粒,传统上,HEPA和ULPA是半导体工艺中赖以控制微粒污染的技术,但随着尺寸由0.25μm快速演进到0.13μm快甚至纳米(2.5m/s)化学滤网。
2)设备进气口之高效过滤风机组单元(FFU)上游处,设置低风速型,(VV>1.2m/s)。
3 结语
当前半导体制程技术发展迅猛,芯片线宽已经进入纳米级,因此半导体洁净室内AMC的控制更显重要。在AMC的控制中的首要步骤是通过监测分析,识别污染的来源和通过调整材料和工艺流程以去除污染物。同时在新风、循环风以及机台侧考虑安装合适的化学过滤器,来保护生产环境。第三,对于洁净室内某区域温湿度异常波动,需要巧妙运用在线检测的数据,去系统分析任何一次超出控制的异常情况,找到引起温湿度异常波动的真实原因,从而找到有效的对策以避免问题的再次发生。最后对整个半导体代工业的洁净室技术的现状和新技术进行总结和比较,并展望本行业将来的发展趋势。
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